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描述:產(chǎn)品簡(jiǎn)介:SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊,通過(guò)橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征分析
廠(chǎng)商性質(zhì)
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2024-03-07訪(fǎng)問(wèn)量
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化 Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng) Mapping測(cè)量模塊,通過(guò)橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征。
產(chǎn)品型號(hào) | SE-Mapping 光譜橢偏儀 |
主要特點(diǎn) | 1、全基片橢偏繪制化測(cè)量解決方案
2、支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化,一鍵繪制測(cè)量
3、配置 Mapping 模塊,全基片自定義多點(diǎn)定位測(cè)量能力
4、豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、 PCRSA 配置, 實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 7、具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測(cè)量能力,提供全面膜厚檢測(cè)分析報(bào)告 |
1、自動(dòng)化程度:固定角+mapping 2、應(yīng)用定位:檢測(cè)型
3、基本功能: Psi/Delta、N/C/S、R 等光譜
4、分析光譜: 380-1000nm(可擴(kuò)至 193-2500nm)
5、單次測(cè)量時(shí)間: 0.5-5s
6、重復(fù)性測(cè)量精度: 0.01nm
7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑200um
8、入射角調(diào)節(jié)方式:固定角
9、入射角范圍: 65°
10、找焦方式:手動(dòng)找焦
11、Mapping1 程: 300x300mm
12、支持樣件尺寸: 至 300mm | ||
可選配件 | 3 | 真空泵 |
4 | 透射吸附組件 |
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